精工技研确立碳化硅晶圆研磨量产

    该技术采用了产业技术综合研究所（产总研）公开的技术。其特点是采用了不向碳化硅结晶施加多余压力的研磨加工，能够降低加工变形并提高晶圆面精度。表面光洁度为0.1nm，达到了外延膜生长所需的Ra值（0.3nm）以下；而且能够通过缩短研磨时间提高量产效率，有望成为备受期待的新一代半导体底板——碳化硅晶圆的实用化技术。除碳化硅外，还可用于加工市场正在快速扩大的白色LED底板材料蓝宝石、氮化镓（GaN）、氧化锌（ZnO）结晶等。

    样品供应已于2007年7月开始，今后，该公司预定在自己的工厂（千叶县松户市）内完善小批量生产体制，构筑量产体制。

    碳化硅与目前半导体底板材料的主流——硅（Si）相比，具有耐高电压、耐高温、电力损失小的优点，有望应用于发电及输电等电力设备、通信系统和工厂的电源装置、电车和汽车的驱动装置等需要控制高电压高电流的装置。但是，由于碳化硅硬度较高，难以进行研磨加工，其量产技术过去一直是大问题。