EUV进展差强人意 英特尔转用湿浸

　　Mayberry表示：“在这一年里，EUV技术并没有多大的改进。”EUV是一种面向32纳米及更高级节点的下一代光刻技术(NGL)。Mayberry指出，EUV仍然面临三个主要问题：合适的来源、无缺陷掩膜和抗蚀剂。整个行业都在努力试图解决这些问题，但一直没有成功。

　　但是，EUV在最近却取得了很大的进展。8月，ASML Holding NV公司向纽约奥尔巴尼大学纳米科学和工程学院（CNSE）出售了世界首个EUV光刻工具。这一工具是用于研发的，而不是用于生产。奥尔巴尼大学表示：“ASML的这种名为Alpha Demo Tool (ADT)的工具造价6500万美元，是EUV技术开发和商业化道路上的重要一步。”同时，欧洲研发组织IMEC也宣布购买了ASML推出的首个EUV工具。

　　这些“demo”版本的工具的初步结果暂时还不得而知。ASML公司首席科学家Bill Arnold表示：“这些设备暂时还没有投入运行，还在进行安装和修调。”