用光学显微镜自动检测硅片周边去边及缺陷的方法
发布日期:2011-10-28 来源:网络
申请号/专利号: 200810043812
本发明公开了一种用光学显微镜自动监控硅片周边去边及缺陷的方法,包括以下步骤:一.选择硅片,用自动检测仪器进行扫描,生成原始数据文件;二.通过系统软件编辑所述原始数据文件,在自动检测仪器扫描范围之外的硅片边缘无效晶片区添加虚拟晶片,在添加的虚拟晶片上编辑虚拟缺陷,生成数据结果文件;三.通过系统软件将所述数据结果文件传送到光学显微镜,光学显微镜根据所述数据结果文件对包括硅片边缘无效晶片区的硅片表面进行自动拍照;四.系统软件通过照片来分析硅片周边的去边情况及硅片周边的缺陷情况。采用本发明的方法,能对硅片边缘的去边情况及缺陷情况进行自动确认。
申请日: | 2008年09月26日 |
公开日: | 2010年03月31日 |
授权公告日: | 2011年06月01日 |
申请人/专利权人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
申请人地址: | 上海市浦东新区川桥路1188号 |
发明设计人: | 田蕊 |
专利代理机构: | 上海浦一知识产权代理有限公司 |
代理人: | 周赤 |
专利类型: | 发明专利 |
分类号: | H01L21/66 |
(本文来源:网络 责任编辑:expert)
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